انواع فرایندهای پیشرفته و مدرن PVD : رسوبدهی از طریق تبخیرسازی سطحی (Evaporation deposition) : فرایندی است که در آن مواد ابتدا به وسیله یک قطعه مقاومت الکتریکی تحت شرایط خلاء کم حرارت داده شده سپس بر روی یک زیرپایه رسوب داده می شوند. رسوبدهی فیزیکی بخار توسط اشعه الکترونی (Electron beam pvd) : فرایندی که در آن مواد جهت رسوب دهی بایستی ابتدا به وسیله یک منبع تحت شرایط خلا زیاد بمباران الکترونی شده و تحت فشار بخار زیاد تبخیر شوند. رسوبدهی توسط کاتدپرانی (Sputter depestion) : در این فرایند یک محیط پلاسمای گرم و پر انرژی و خنثی مواد هدف را بمباران کرده و تبخیر می شوند. رسوبدهی به وسیله قوس کاتدی (cathodic Arc vapor deposition) : فرایندی که در آن مواد پوسته هدف به وسیله یک قوس الکتریکی مستقیم و پر انرژی به حالت بخار تبدیل در می آیند . هریک از فرایندهای ...
ادامه مطلب ...
پنجشنبه 25 شهریور 1395 ساعت 01:03